CVD反應爐的種類有以下幾種:
1,熱絲 Hot Filament
2,直流電弧噴射 DC Arc Jet
3,微波等離子 Microwave Plasma
前二種适合生長多晶薄膜。微波分為2.45GHz及0.915GHz兩種頻率, 後者可以做到數十到百KW的功率,其托盤直徑可達4-6英寸,較前者的生産效率(6KW,2英寸)高很多,大型設備是未來CVD爐的趨勢。
CVD反應爐的種類有以下幾種:
1,熱絲 Hot Filament
2,直流電弧噴射 DC Arc Jet
3,微波等離子 Microwave Plasma
前二種适合生長多晶薄膜。微波分為2.45GHz及0.915GHz兩種頻率, 後者可以做到數十到百KW的功率,其托盤直徑可達4-6英寸,較前者的生産效率(6KW,2英寸)高很多,大型設備是未來CVD爐的趨勢。
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